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TEM制樣離子減薄儀(PIPS) 發布時間:2024-06-03 14:56:34

氬離子拋光切割機CP離子研磨截面拋光儀   副本.jpg

TEM制樣離子減薄儀(PIPS)


應用領域:

離子減薄儀為一種在材料科學領域普遍應用的儀器,主要用于陶瓷、半導體、金屬和合金等多種材料的透射電子顯微鏡(TEM)樣品的制備。離子減薄儀有著較快的制樣速度,可以以最小的耗費制備高質量的TEM樣品,該儀器配備低能量離子槍和液氮冷臺,對能量敏感性和溫度敏感性樣品的減薄特別適合。


原理:

氬氣的電離采用高壓來進行,在電場是作用下,電離后的氬離子對樣品表面進行轟擊。在氬離子的持續轟擊下,樣品慢慢減薄,一直到使透射電鏡觀察要求滿足,此即為離子減薄儀的工作原理。氬離子拋光儀和離子減薄儀有著相同的原理,也是通過氬離子對樣品表面進行轟擊,使得樣品表面變得平整光滑,因此該儀器大體上不需要太多的改變。


離子減薄儀具備樣品切割和拋光兩項功能:該設備配溫控液氮冷卻臺,去除熱效應對樣品的損傷,有助于避免拋光過程中產生的熱量而導致的樣品融化或者結構變化;同時配備配碳/備鍍膜,對于同一個樣品,可在同一真空環境下完成拋光及鍍膜,防止樣品氧化,可以用于SEM/FIB導電鍍膜樣品的制作。


技術優勢:

1.兩支獨立可調電磁聚焦離子槍;

2.同時具備高能量(快速拋光)和低能量(精細修復);

3.超寬加速電壓范圍:100eV - 10kV,不同加速電壓下,離子束束斑均保持理想束斑狀態;

4.每支離子槍均配備對應法拉第杯進行離子束直接探測;

5.采用可調節10英寸觸屏控制系統,人機界面友好,操作簡潔;

6.減薄角度范圍:-15°到 +10°連續可調;

7.樣品載臺X-Y可調,可根據需要調整樣品減薄位置;

8.具備原位實時觀察及記錄減薄過程功能;

9.樣品可360°連續旋轉或搖擺,離子束自動避讓樣品夾;

10.可選液氮冷臺配置,去除熱效應對樣品的損傷;

11.可選真空或惰性氣體轉移裝置,隔絕樣品與水氧接觸。


樣品要求:

離子減薄儀為專門為透射樣品的制備而設計的儀器制備,樣品要求為厚度為三十微米,直徑為三毫米的薄片。為使設備工作條件得到滿足,需要預處理樣品,首先將樣品切割成一毫米厚的薄片,再從粗到細選擇砂紙對樣品表面進行打磨。


透射電鏡所需樣品具有非常小的尺寸,需要在載片中間的小孔上粘樣品。掃描電鏡觀察的樣品尺寸要遠遠大于透射樣品。為了使效率提高,樣品一次能夠多放幾個,在樣品臺上用熱熔膠固定,然后對電壓、氬離子流,樣品傾角、拋光時間等工作參數進行調整。工作電壓和氬離子流的增加能夠使拋光效率有所提高,若這兩個參數過高,容易損傷樣品。


案例分析:      

減薄樣品在TEM中觀察效果:

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